薄膜均勻性概念

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)，也就是說(shuō)對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō)，真空鍍膜沒(méi)有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說(shuō)要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。冷凝泵的抽氣速率及影響冷凝泵的抽氣速率與冷凝表面的面積大小有關(guān)系，經(jīng)數(shù)據(jù)顯示，單位冷凝表面積下的抽氣速率為11。

2.化學(xué)組分上的均勻性： 就是說(shuō)在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過(guò)程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。鍍膜機(jī)操作程序真空鍍膜機(jī)操作程序具體操作時(shí)請(qǐng)參照該設(shè)備說(shuō)明書(shū)和設(shè)備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說(shuō)明。

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常見(jiàn)的真空鍍膜材料

氧化物一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鈮Nb2O5，五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3，氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。

其它化合物硫化鋅ZnS，硒化鋅ZnSe，氮化鈦TiN，碳化硅SiC，鈦酸鑭LaTiO3，鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鐠PrTiO3，硫1化鎘CdS等真空鍍膜材料。

金屬鍍膜材料高純鋁Al，高純銅Cu，高純鈦Ti，高純硅Si，高純金Au，高純銀Ag，高純銦In，高純鎂Mg，高純鋅Zn，高純鉑Pt，高純鍺Ge，高純鎳Ni,高純金Au，金鍺合金AuGe，金鎳合金AuNi，鎳鉻合金NiCr，鈦鋁合金TiAl，鋅鋁合金ZnAl，鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。如果要求不嚴(yán)格，可以選擇有油泵，加上一些防油污染措施，如加冷阱、障板、擋油阱等，也能達(dá)到清潔真空要求?！?

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真空鍍膜機(jī)檢漏

要承認(rèn)漏氣究竟的虛漏仍是實(shí)漏，因?yàn)楣ぜY料加熱后都會(huì)在不同程度上發(fā)生氣體，有也許誤以為是從外部流進(jìn)的氣體，這即是虛漏，要掃除這種狀況。

第二，測(cè)驗(yàn)好真空室的氣體密封功能，確保氣密功能符合要求。

第三，查看漏孔的巨細(xì)，形狀、方位，漏氣的速度，制備出可處理方案并施行。

第四，斷定檢查儀器的1小可檢漏率和檢漏靈敏性，以1大規(guī)模的檢查出漏氣狀況，防止一些漏孔被疏忽，進(jìn)步檢漏的準(zhǔn)確性。

第五，掌握檢漏儀器的反應(yīng)時(shí)刻和消除時(shí)刻，把時(shí)刻掌握好，確保檢漏儀器作業(yè)到位，時(shí)刻少了，檢漏作用必定差，時(shí)刻長(zhǎng)了，糟蹋檢漏氣體和人工電費(fèi)。

第六，還要防止漏孔阻塞，有時(shí)因?yàn)椴僮魇д`，檢漏過(guò)程中，一些塵?；蛞后w等把漏孔阻塞了，以為在該方位沒(méi)有漏孔，但當(dāng)這些阻塞物因?yàn)閮?nèi)外壓強(qiáng)區(qū)別進(jìn)步或別的緣由使漏孔不堵了，那漏氣仍是存在的。